WORKS INTRODUCTION
実績紹介
半導体・ディスプレイ製造装置 Semiconductor and display manufacturing equipment
シリコンウェハ洗浄機
Silicon wafer cleaning machine
- 業界種別
- 半導体製造装置 Semiconductor Manufacturing Equipment
- 要求仕様
- ６槽式全自動洗浄乾燥 6-tank fully automatic cleaning and drying system
- 装置サイズ
- L6820×D2400×H1950 (mm) L6820×D2400×H1950 (mm)
- 備考
- 当社オリジナル Original design by YAMATO Corp.